介紹本文隸屬于半導體應用專題,全文共5758字,閱讀大約需要15分鐘摘要:在半導體制造的微觀世界里,化學機械拋光(CMP)工藝是實現(xiàn)晶圓表面平坦化的關(guān)鍵步驟,雙氧水(H?O?)作為CMP研磨液(Slurry)中的核心氧化劑,其濃度的精準監(jiān)測...
介紹本文隸屬于半導體應用專題,全文共5758字,閱讀大約需要15分鐘摘要:在半導體制造的微觀世界里,化學機械拋光(CMP)工藝是實現(xiàn)晶圓表面平坦化的關(guān)鍵步驟,雙氧水(H?O?)作為CMP研磨液(Slurry)中的核心氧化劑,其濃度的精準監(jiān)測...
介紹本文隸屬于不溶性微粒應用專題,全文共3496字,閱讀大約需要10分鐘中國藥典不溶性微粒標準的演進之路—對比2020版、2025版與USP,洞察國際接軌新趨勢2025年版本的中國藥典在不溶性微粒檢測領域迎來重要修訂與補充,不僅對原有不溶性...
介紹本文隸屬于復雜制劑應用專題,全文共7076字,閱讀大約需要18分鐘摘要:疫苗中亞可見顆粒的存在對產(chǎn)品的安全性、有效性及質(zhì)量一致性具有重要影響。這些顆??赡軄碓从诘鞍踪|(zhì)聚集、乳化劑聚集或外源性微粒,盡管尺寸處于亞可見范圍,仍可能誘發(fā)免疫反...
本文隸屬于電池行業(yè)應用專題,全文共3274字,閱讀大約需要10分鐘摘要:納米二氧化硅(SiO?)是油墨、涂料等行業(yè)的常用多功能材料,其分散體的儲存穩(wěn)定性直接關(guān)系到最終產(chǎn)品性能。傳統(tǒng)穩(wěn)定性分析方法耗時久且難以實現(xiàn)量化評估,存在一定局限。本研究...
儀器介紹本文隸屬于儀器日常維護專題,全文共2883字,閱讀大約需要8分鐘Counter主機:1:Counter主機–電腦9/25pc串行線2:Counter主機–進樣器連接線插頭3:傳感器控制線插頭4:船型開關(guān)5:Counter電源線進樣器...
介紹本文隸屬于半導體應用專題,全文共4696字,閱讀大約需要12分鐘摘要:在藍寶石晶圓的化學機械拋光(CMP)工藝里,硅溶膠磨料是影響拋光質(zhì)量與效率的關(guān)鍵要素,其顆粒粒度極大影響了晶圓的品質(zhì)與性能,尤其是少數(shù)大粒子(LPC)更是關(guān)鍵影響因素...
介紹本文隸屬于不溶性微粒應用專題,全文共3642字,閱讀大約需要10分鐘中國藥典不溶性微粒標準的演進之路—對比2020版、2025版與USP,洞察國際接軌新趨勢_v2.0V2.0版本我們對文章內(nèi)容進行了更新,并修訂了部分數(shù)據(jù)說明與措辭,以反...
介紹本文隸屬于其他行業(yè)應用專題,全文共3724字,閱讀大約需要10分鐘摘要:電子設備向微型化、高性能化發(fā)展,MLCC性能升級受傳統(tǒng)分散設備制約。本文聚焦高壓微射流均質(zhì)機,其借高壓射流、剪切效應實現(xiàn)物料納米級分散,解決傳統(tǒng)設備痛點,覆蓋MLC...